在现代半导体、科研尝试室、综合厂房的集中供气系统中 ，气瓶柜、气瓶架已经成为冈炜工艺气体的配套性装置。大无数特殊性气体 ，如有毒性、易燃易爆性、天然性气体多搁置在特气柜内 ，大量通常惰性气体使用气瓶架通常就能够满足用户需要。那么易燃易爆特气柜（GC）和毒性、侵蚀性特气柜的配置一样吗？在设计初期有什么区别和当苦衷项 ，我们能够在项目建设初期合理规划布局 ，从而安全使用。
特气系统的硬件配置需要：
GC、GR可选取单工艺气瓶表置吹扫氮气（源）瓶（单瓶式）、双工艺气瓶表置吹扫氮气、双工艺气瓶内置吹扫氮气等多种结构配置。GC、GR 应设置作业用气面子板。系统的供给能力应经过热力学和流体力学推算核实。气瓶柜关门时应维持不低于100Pa负压 ，柜内的排风换气次数不得低于300次/H 。GC板材厚度不得低于2.5mm ，并有放侵蚀涂层。GC门应具备自动关关职能 ，并建设防爆玻璃观察窗 ，地脚螺栓设计应满足本地地震设防烈度的要求。
另表 ，结合分歧气体的分歧性质 ，不相容气体瓶严禁搁置于统一气瓶柜或气瓶架中。天然性、可燃性、毒性、侵蚀性气瓶柜应在排风出口设置气体泄露侦测器。GC、GR应设置清澈明确的安全标识牌。我们做好规范相应的要求 ，能力确保用气的稳操胜券 ，给业主最大限度的安全保险。
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